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海海金属メテリアルズ株式会社

海海チタン有限公司


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ハフニウムのスパッタ リング ターゲット、高純度、モノリシック、平面、陰極アーク、PVD コーティング、薄膜成膜、スパッタ、マグネトロンスパッタ HF 対象メーカーとサプライヤー

スパッタ リング ターゲット Haohai ハフニウムは、コンテンツ、高純度・高信頼性半導体薄膜コーティングで広く使用されて低ジルコニウムを保証する洗練されたクリスタル バーから作られます。

制品の詳細

ハフニウム スパッタ リング ターゲット

ハフニウム ベース薄膜 Haohai ハフニウム (Hf) スパッタ リング ターゲットから作られては、新しい世代の半導体の絶縁体として使用されます。薄膜は、シリコンへの銅の拡散を防ぐことができます。非晶質ハフニウム酸化物高誘電、それ現在ゲート漏れ量低減を可能にし、電子機器のパフォーマンスが向上します。

私たちのハフニウムのスパッタ リング ターゲットは低ジルコニウム含有、高純度、高信頼性を保証する洗練されたクリスタル バーから作られます。

Haohaiハフニウム (Hf)スパッタ リング ターゲットを含めるハフニウム平面のスパッタ リング ターゲット。




ハフニウム平面 (四角形、円形) スパッタ リング ターゲット

製造可能範囲

四角形

長さ (mm)

幅 (mm)

厚さ (mm)

カスタムメイド

10 - 1500

10 - 400

5.0 - 40

円形

直径 (mm)


厚さ (mm)

5.0 - 400


5.0 - 40


仕様

組成

Hf

純度

3N5 (99.95%)

密度

13.31 g/cm3

粒径

運針停止;150 ミクロン、またはリクエスト

製造プロセス

真空溶解,加工

図形

モノリシック プレート、マルチ セグメント化されたターゲット

種類

プレート、ディスク、ステップ ボルト、ダウン スレッド処理、カスタムを作った

表面

Ra 1.6 ミクロン

その他の仕様

平坦性、きれいな滑らかな表面、洗練された、亀裂、油、ドットなどの無料。

小さな線膨張係数、良い耐熱性に優れた伝導。



スパッタ リング ターゲット、ハフニウムの

トレランス

アセサリー図面またはリクエスト。


不純物コンテンツ [ppm]

ハフニウムの含有 [ppm]


Hf

純度 [%]


99.95

金属不純物 [ppm]

アル

25

B

0.5

Bi

1

Cd

2.5

Cr

30

Co

5

Fe

95

Mg

2

Mn

20

Mo

10

Nb

50

Ni

25

Si

25

Ti

20

W

20

Zr

5

非金属不純物 [ppm]

C

20

N

5

O

50

P

10

保証密度 [g/cm3]


13.3

粒 [μ m]


150


アプリケーション

耐磨耗コーティング

装飾的なコーティング

光学コーティング

Semiconductors


Haohai 金属、専門工場、装備は大手メーカーと製品を接合の様々 なサイズのサプライヤーの一つです。スパッタ リング ターゲット、高純度、モノリシック、平面、陰極アーク、pvd コーティング、薄膜蒸着、マグネトロンスパッタ hf スパッタ リング ターゲット メーカーとサプライヤー ハフニウムおります。購入し、低価格、高使用率、高純度、私たち生産者と高品質製品を卸売へようこそ。

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